Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165

Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165

Lucovsky, Gerald
Ibbotson, Dale E.
Hess, Dennis W.

30,65 €(IVA inc.)

TGM

  • ISBN: 978-1-107-41028-2
  • Editorial: Cambridge University Press
  • Encuadernacion: Rústica
  • Páginas: 270
  • Fecha Publicación: 05/06/2014
  • Nº Volúmenes: 1
  • Idioma: Inglés